2022年11月9日水曜日

「場の古典論」マックスウェルの方程式の第2の組

電磁場のラグランジュアン
後ろのページは無し


【場の古典論】
【第4章】場の方程式
《第30節》マックスウェルの方程式の第2の組
 最小作用の原理を用いて電磁場の方程式を求めるには、電荷を持つ粒子の運動は与えられたものと仮定し、電磁場だけを、つまり、電磁ポテンシャルAi だけを変化させなければならない。他方、運動方程式を求めるためには、電磁場を与えらえたものとして、粒子の軌跡を変化させた。
したがって、以下の作用積分(粒子がn個あり、粒子毎に異なる電荷がある)

の第1項のmcdsはゼロであり、第2項ではAidxi のdxi を変化させてはならない。このようにして、最小作用の原理を上記の式に適用する。
(なお、上記の式では表示の簡単化のために、n個の粒子の各世界点の4元ベクトルxi に付けるべき粒子番号の添え字nを省略している)

 「場の古典論」では、作用積分の領域の時間的境界面に、場の4元ポテンシャルAiを固定している。最小作用の原理を適用するイメージとして、下図のx,y,z,tの4次元空間(z軸は図示しない)内の粒子1と粒子2と、電磁場の4元ポテンシャルAi とを考える。

  この4次元空間の時間軸方向の大きさは、時間軸方向での最初の時刻と最後の時刻との間の時間Δtの大きさを持つ。この4次元空間の3次元空間座標軸方向の大きさは、時間軸方向の大きさΔtの光速度 c 倍のcΔtよりも十分に大きく、ほぼ無限遠に至るまで大きくする。電磁場は光速度で伝わるので、電荷の存在する領域から光速度で達する領域よりも外の領域には場の4元ポテンシャルが存在しない。すなわち、4次元空間の3次元空間座標軸方向の十分に遠方の端では場の4元ポテンシャルAi が存在しない。そのような4次元的な直方体の領域を考える。
 その4次元的な直方体の時間軸方向での4次元的な境界面(与えられた最初の時刻での3次元空間と、Δt後の最後の時刻での3次元空間)に、粒子の世界点a1,b1,a2,b2が固定されている。また、電磁場の4元ポテンシャルAi が固定されている。  
 粒子1について世界点a1から世界点b1まで作用積分し、粒子2について世界点a2から世界点b2まで作用積分する。あらゆる粒子について、同様に作用積分する。電磁場の4元ポテンシャルAiを微分して電磁場テンソルFik を計算して、それを使って電磁場のスカラーを求める。そして、上図の4次元的な直方体内の電磁場のスカラーを積分して電磁場の作用積分を求める。
 それらの作用積分の総体の値が最小になるように、粒子1の軌跡と粒子2の軌跡と、電磁場の4元ポテンシャルAiの各時刻と各位置における値を定める。

 作用積分SおよびラグランジュアンLをあらわす式を、電磁ポテンシャルAi とその微分との関数で作った。その作用積分Sの変分δSが以下の式で計算できる。なお、以下の式では、表示を簡単化するため、n個の粒子毎の電荷を表す記号eに付けるべき粒子番号の添え字nを省略してあらわす。またn個の粒子の世界点の4元ベクトルxi に付けるべき粒子番号の添え字nを省略してあらわす。

次に、第2項の添え字のiとkを入れ替える。

さらに、第2項のFkiを-Fikでおきかえる。

次に、第2の積分を部分積分する。 つまりガウスの定理を適用する。

この式で、ガウスの定理で面積積分した第2項については、4次元的直方体の積分の限界である4次元的境界面での値を入れなければならない。

先ず、第2項での4次元的境界面のうち、3次元座標の積分の限界である、ほぼ無限遠方の境界面の位置では、電磁場はゼロである。次に、第2項での4次元的境界面のうち、時間方向の積分の限界の境界面、すなわち、与えられた最初の時刻の3次元空間と最後の時刻の3次元空間においては、電磁場の4元ポテンシャルAi がその4次元的境界面(3次元空間)に固定されている。そのため、その時間方向の4次元的境界面(3次元空間)では、Aiの変分δAi がゼロである。
その結果、第2項が消えて以下の式になる。

ここで、この式の第1項を、第28節で求めた電流密度ベクトルを用いた以下の式におきかえる。

この電流密度ベクトルは以下の式であらわされる。

作用積分Sの変分δSは以下の式に整理できる。

最小作用の原理による変分δAi は任意であるから、δAi の係数をゼロに等しいとおかなければならない:

添え字i が1から4の4つの方程式が、4次元形式にあらわされたマックスウェルの方程式の第2の組である。それらを3次元形式に表わそう。i=1の第1式は

この式は、続くi=2, i=3 の2つの式と合わせて1つのベクトル方程式に書くことができる。

最後に、i=0 の第4の方程式は

になる。
 これらのベクトル表示で書かれた方程式は、マックスウェルの方程式の第2の組である。
 以上のように電流密度分布と電磁場テンソルの成分が関係付けられたのは、作用積分の項に、電磁場の存在に係る作用積分の項Sf を加えたことで、最小作用の原理から、電磁場自身が生成される原因を定める方程式を導出することができた。そして、その方程式は、電磁場が電流密度あるいは電荷によって生成されるということをあらわしている。
 電荷が、先行して存在する電磁場の影響を受ける作用があれば、電磁場自身も独立な実体であるとする(作用積分の項Sfを加える)ならば、電荷から逆に、電磁場が生み出されるという反作用の解(マックスウェルの方程式の第2の組)が得られた。
 このようにして、電場や磁場は、電流密度ベクトル(電流密度あるいは電荷)によって生じることがわかった。
 特に、注意すべき事は、電場の時間微分で表されている電束電流もまた、(電荷)電流密度ベクトルによって生じることである。

《当ブログの意見》
 最後に、この最小作用の原理から導きだされた方程式の解釈をもう1つ追加する。この解の方程式は、電流密度ベクトルが電磁場テンソルの成分(電磁場)を生じる解釈の他に、逆に、電磁場が電荷を生成すると解釈することができる。その解、すなわち、電磁場が電荷を生じる(電荷の対生成)顕わな解を得るためには、電磁場のラグランジュアンに新たな項を追加する必要があると考える。

【リンク】
pdf 古典力学 (解析力学)
東京大学数理物理学班「古典力学」
「高校物理の目次」


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